LPIC晶圆

gtceu:lpic_wafer，来自 GregTech

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类型: 物品
模组: GregTech
ID: gtceu:lpic_wafer
游戏版本: 0.6.0-dev19（普通）

合成方式

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电压

全部10 MV1 HV2 EV2 IV2 LuV1 ZPM1 UV1

维度聚焦激光蚀刻阵列产出 LPIC晶圆查看配方
 不消耗 5mB 8
IV
耗时
2 秒
总计
307,200 EU
耗能功率
7,680 EU/t
条件与说明
- 需要超净间
激光蚀刻机产出 LPIC晶圆查看配方
不消耗 8
EV
耗时
10 秒
总计
384,000 EU
耗能功率
1,920 EU/t
条件与说明
- 需要超净间
维度聚焦激光蚀刻阵列产出 LPIC晶圆查看配方
 不消耗 6mB 16
LuV
耗时
0.5 秒
总计
307,200 EU
耗能功率
30,720 EU/t
条件与说明
- 需要超净间

用途

切割机产出 LPIC芯片查看配方
 150mB 4
HV
耗时
45 秒
总计
432,000 EU
耗能功率
480 EU/t
条件与说明
- 需要超净间