光栅光刻掩膜

gtocore:grating_lithography_mask，来自 GTOCore

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类型: 物品
模组: GTOCore
ID: gtocore:grating_lithography_mask
游戏版本: 0.6.0-dev19（普通）

合成方式

组装机产出光栅光刻掩膜查看配方

EV
耗时
10 秒
总计
384,000 EU
耗能功率
1,920 EU/t
条件与说明
- 需要超净间

用途

查看全部 5 条

电压

全部5 EV1 UEV1 UIV1 UXV1

维度聚焦激光蚀刻阵列产出衍射光栅镜查看配方
 不消耗 6mB
UXV
耗时
6 秒
总计
15,099,494,400 EU
耗能功率
125,829,120 EU/t
条件与说明
- 需要超净间
激光蚀刻机产出衍射光栅镜查看配方
不消耗
UIV
耗时
30 秒
总计
18,874,368,000 EU
耗能功率
31,457,280 EU/t
条件与说明
- 需要超净间
精密激光蚀刻产出飞米功率集成电路晶圆查看配方
不消耗不消耗不消耗不消耗不消耗不消耗不消耗不消耗 1B
UEV
耗时
140 秒
总计
22,020,096,000 EU
耗能功率
7,864,320 EU/t