电镀池
gtocore:electroplating_bath，来自 GTOCore
电镀池
运行要求
机器的多方块顶部区域，以主机为中心，可以将仓室放置区划分为两
侧，分别用于输入不同的半反应
两侧区域的输入原料分别独立寻找半反应配方
当两侧半反应均有配方、属于同一电解质体系、安装有半透膜、且它们
产生的电荷符号相反时，会自动合成为一个总反应运行
总反应的功率=两侧半反应功率之和/2
总反应的时间=两侧半反应（时间×功率）之和/总反应功率
半透膜
阳离子交换膜：当反应产生的离子为除质子以外的阳离子时使用
阴离子交换膜：当反应产生的离子为除氢氧根以外的阴离子时使用
质子交换膜：当反应产生的离子为质子时使用
不同种类的半透膜为反应提供了不同的时间、耗电乘数
每次总反应消耗膜耐久：普通仓为⌈√(总反应并行数)⌉，高级仓为⌈(总
反应并行数)^0.25⌉
当反应有多种离子产生时，半透膜仅需能透过其中一种离子即可
支持并行控制仓
允许安装并行控制仓实现并行处理
配方类型：电化学电镀
掌握了从矿石中提取和分离铂系金属的技术后
GTO集团的工程师们开始尝试着这个材料混那个，那个材料混这个
最开始他们只是在合金冶炼炉里混合
但他们想要的镀铑钯锭怎么可能在那里诞生呢
- 类型
- 物品
- 模组
- GTOCore
- ID
- gtocore:electroplating_bath
- 游戏版本
- 0.6.0-dev19（普通）
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