综合气相沉积系统

综合气相沉积系统
PVD与CVD完美融合,物理溅射与化学气相协同作用
从纳米镀层到金刚石薄膜,单原子层精度控制沉积过程
朗缪尔-布洛杰特技术在此进化,实现三维复杂曲面均匀沉积
表面工程的终极答案
机器自带并行机制
机器自带并行机制,无需安装并行控制仓
最大并行:由玻璃等级决定
公式 : 4^玻璃等级
支持超高安能源输入
支持激光仓或256A及以上无线能源仓大功率供能
可同时处理多种配方
允许安装线程仓实现多线程配方并行处理。
难以想象的工作效率,尽管去做吧!
配方类型:化学气相沉积, 物理气相沉积
原子级镀膜圣殿,让物质以气态演绎重生之舞
真空室中原子如星尘飘落,在基材表面编织完美涂层
类型
物品
模组
GTOCore
ID
gtocore:integrated_vapor_deposition_system
游戏版本
0.6.0-dev19(普通)

合成方式

  • 装配线产出 综合气相沉积系统查看配方
    UHV
    耗时
    40 秒
    总计
    1,677,721,600 EU
    耗能功率
    2,097,152 EU/t
    条件与说明
  • 研究站产出 综合气相沉积系统查看配方
    LuV
    最大总耗能
    122,880,000 EU
    耗能功率
    30,720 EU/t
    最小算力
    256 CWU/t
    总计算量
    1,024,000 CWU
  • 方块掉落物产出 综合气相沉积系统查看配方